CVD iniciovaná laserem
Laser je koherentní, monochromatický svazek fotonů o vysoké energii.[1],[2] CVD iniciovaná laserem využívá tepelné energie, která se uvolní po dopadu paprsku na substrát. Substrát se lokálně zahřeje na vysokou teplotu a depozice probíhá pouze na malé ploše, kterou dokáže paprsek zahřát.
Tato metoda je zatím ve fázi vývoje.
Příklady testovaných systémů
| Materiál | Prekurzor | Tlak | Laser (nm) |
|---|---|---|---|
| Hliník | Al2Me6 | 10 Torr | Kr (476–647) |
| Uhlík | C2H2, C2H6, CH4 | Ar–Kr (488–647) | |
| Zlato | Au(acac) | 1 Torr | Ar |
| Křemík | SiH4, Si2H6 | 1 atm | Ar–Kr (488–647) |
| Wolfram | WF6, H2 | 1 atm | Kr (476–647) |
Předpokládané využití
Možné využití této metody je při depozici velmi malých vzorů (0,5 µm) v polovodičovém průmyslu nebo při výrobě SiC vláken.
Máte dotaz nebo podnět k článku? Napište mi
FORMÁT PRO TISK
Poslední změna:
29.06. 2006 00:18